1。電磁場：
* 磁場： 電子ビーム経路を制御する最も一般的な方法は、磁場を通過することです。
* たわみコイル： たわみコイルと呼ばれる電磁石は、電子ビームを特定の方向に偏向させる磁場を作成するために使用されます。これらのコイルを通る電流を調整することにより、ビームを水平および垂直に操縦できます。
* 集中コイル： コイルの焦点を合わせる別のタイプの電磁石を使用して、電子ビームを収束させて小さなスポットに焦点を合わせた磁場を作成します。
* 電界：
* 偏向プレート： たわみコイルと同様に、偏向プレートは電子ビームを導く電界を作成します。ただし、それらは主に、スペースの制約がコイルの使用を制限するデバイスで使用されます。
2。ビームの形状と焦点要素：
* 静電レンズ： これらのレンズは、静電フィールドを使用して、光レンズが光を焦点を合わせる方法と同様に、電子ビームに焦点を合わせて形作ります。
* 磁気レンズ： 磁気レンズは、一部のアプリケーション、特に高解像度顕微鏡でビームを焦点を合わせるために使用されます。
3。外部要因：
* 真空環境： 電子ビームは、ビームを散乱させる空気分子との衝突を避けるために真空で移動する必要があります。この真空はポンプによって維持されます。
* ソースジオメトリ： 電子源の形状とサイズ、電子が放出されるポイントは、初期ビーム特性に影響します。
* 電子エネルギー： 加速電圧によって決定される電子のエネルギーは、ビームの軌道と浸透深度にも影響します。
例：
* 電子顕微鏡： 電子顕微鏡では、電子ビームは細かく制御され、非常に小さなオブジェクトの画像を作成します。
* テレビチューブ： CRTテレビの電子ビームは画面上でスキャンされて画像を作成します。
* 産業用途： 電子ビームは、溶接、表面修飾、滅菌などの産業プロセスで使用されます。
キーポイント： 衝撃点を制御する特定の要因は、アプリケーションと電子ビームシステムの種類によって異なります。ただし、電磁場、焦点要素、真空環境の基本原則は依然として重要です。
