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ゲルマニウム硫化物直接バンドギャップ材料ですか、それとも間接的ですか?

硫化ゲルマニウム(GES)は、間接的なバンドギャップ半導体です 。

その理由は次のとおりです。

* バンド構造: GESのバンド構造は、伝導帯の最小値と原子価帯域の最大値がブリルアンゾーンの同じポイントで発生しないことを示しています。これは、電子が原子価帯域から伝導帯に移行するには、エネルギーと勢いの両方を変える必要があることを意味します。

* 光吸収: 間接的なバンドギャップ材料は、直接バンドギャップ材料と比較して、光子の吸収係数が低くなっています。これは、移行が勢いを節約するためにフォノン(格子振動)の参加を必要とし、プロセスの可能性を低下させるためです。

* 発光: GESは弱い発光を示します。これは、間接的なバンドギャップ材料のもう1つの特徴です。これは、運動量の不一致のために電子と穴の放射組換えの効率が低下しているためです。

GESは直接的なバンドギャップ素材ではありませんが、さまざまなアプリケーションに適した興味深い光学および電子プロパティがまだあります。

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