これがこれが起こる理由の内訳です：
モノサブ剤を支持する要因：
* アシル基の非アクティブ効果： アシル基のカルボニル基は電子吸収性であり、さらなる電気炎攻撃に対する芳香族リングの反応性を低下させます。この非アクティブ化効果により、その後のアシル化が発生する可能性が低くなります。
* 立体障害： かさばるアシル基は、電気泳動のリングへのアプローチを妨害し、ポリス施設の可能性をさらに低下させる可能性があります。
多分散につながる可能性のある要因：
* 高反応性芳香族基質： 電子誘導基（アルキル基やアルコキシ基など）を含む芳香環は、電気炎攻撃に対してより反応します。これらの基質は、多施設の影響を受けやすいです。
* 過剰なアシル化試薬： 大量のアシル化試薬を使用すると、多施設の可能性が高まる可能性があります。
* 反応条件： より高い温度とより長い反応時間も、多分散を促進する可能性があります。
フリーデルクラフトのアシル化における多分散の例：
* トルエンのアシル化： その電子誘導メチル基を備えたトルエンは、特にアシル化剤の大部分を使用して、多施設を受ける可能性があります。
* アニソールのアシル化： その電子誘導メトキシ基を備えたアニソールは、トルエンよりもさらに反応性が高く、多施設を容易に受けることができます。
結論：
フリーデルクラフトのアシル化は通常、モノスプテーションを支持しますが、特定の条件下でポリス施設が可能であることを覚えておくことが重要です。芳香族基質の反応性、使用されるアシル化試薬の量、反応条件などの要因は、多分散の程度に影響を与える可能性があります。
