フッ素： これは、ゼノンが化合物を形成する最も一般的な要素です。
* xenon fluorides： XEF2、XEF4、およびXEF6はすべて、キセノンとフッ素ガスの直接反応によって形成される安定した化合物です。
* 他のフッ素化化合物： これらは、XEOF2、XEO2F2、XEO3F2を含むフッ化物から形成できます。
酸素：
* キセノン酸化物： XEO3とXEO4は、非常に不安定な爆発性化合物です。
その他の要素：
* xenon hexafluoroplatinate（v）： Xeptf6は、発見された最初のキセノン化合物でした。
* キセノンオキシテトラフルオリド： Xeof4は、フッ素と酸素の両方で形成された別の安定した化合物です。
* Xenon Tetrafluoride： Xef4は強酸と反応してXef3+カチオンを形成できます。
重要な考慮事項：
* 高い電気陰性度： キセノン（フッ素と酸素）と反応する要素は非常に感動的です。これは、彼らが電子に強い魅力を持っており、電子をキセノンから引き離して結合を形成できることを意味します。
* 高エネルギー条件： キセノンのほとんどの反応は、その不活性を克服するために、高温や放電などの高エネルギー条件を必要とします。
* 限られた安定性： キセノン化合物の多くは非常に不安定で、簡単に分解できます。
キセノンの反応性は限られていますが、化合物を形成する能力は、化学結合と貴族の性質に関する貴重な洞察を提供しています。
