この方法では、同様の結晶構造を持つ基板に2D材料の薄膜を堆積させることが含まれます。基板は、2次元材料の成長のためのテンプレートを提供し、単結晶の形成を促進します。
化学蒸気堆積（CVD）
この方法では、2-D材料の前駆体を含む蒸気がチャンバーに導入されます。前駆体は基板上で反応して2-D材料を形成します。 CVDは、2D材料の高品質の単結晶を栽培するために使用できます。
分子ビームエピタキシー（MBE）
MBEは、前駆体の分子ビームを使用して材料の薄膜を栽培する技術です。 MBEは、フィルムの厚さと組成を正確に制御して、2D材料の高品質の単結晶を栽培するために使用できます。
液相エピタキシー（LPE）
LPEには、前駆体の溶融溶液を基板に堆積させることが含まれます。 2D材料は、冷却すると溶液から結晶化します。 LPEは、高度な完全性を持つ2D材料の単結晶を栽培するために使用できます。
溶液相合成
この方法では、2-D材料の前駆体が溶媒に溶解します。次に、前駆体が反応して2-D材料を形成するまで溶液を加熱します。溶液相合成を使用して、さまざまな形状とサイズの2D材料の単結晶を栽培できます。
単結晶として2D材料を拡大する方法の選択は、材料の結晶構造、希望のサイズと結晶の形状、利用可能なリソースなど、いくつかの要因に依存します。
