10％NAOHソリューションが使用される理由は次のとおりです。
* 塩基触媒アルドール凝縮： ジベンザラセトンの合成は、アルドール凝縮反応に依存しています。この反応には、ベンズアルデヒドのカルボニル基におけるエノラートイオン（アセトンの脱プロトン化から形成）の求核攻撃が含まれます。 Naohは、アセトンを脱プロトン化し、エノラートイオンを形成する強力な塩基として機能します。
* 最適濃度： 10％NaOH溶液は、アセトンを効果的に脱プロトン化するために、適切な濃度の水酸化物イオン（OH-）を提供します。この濃度は、過度の副反応を避けながら、反応を促進するのに十分なベースの必要性のバランスをとります。
* 均衡の駆動： アルドール凝縮は平衡反応です。 NaOHのようなベースを使用すると、酸性生成物（水）を除去し、希望の生成物であるジベンザラセトンに向かって平衡をシフトすることにより、反応を前進させるのに役立ちます。
重要なメモ：
* 安全性： Naohは強力なベースであり、腐食性があります。慎重に処理し、適切な保護具を着用し、換気の良いエリアで作業することが重要です。
* バリエーション： 10％NaOHが一般的に使用されていますが、正確な濃度は、特定の反応条件と実験の規模によってわずかに異なる場合があります。
ジベンザラセトン合成や有機反応におけるNaOHの役割について他に質問がある場合はお知らせください！
