接触プロセスで使用されるガスはどれですか？

その理由は次のとおりです。

* 接触プロセスは、硫酸を生成するように設計されています（H2SO4）。

* 二酸化硫黄（SO2）は出発材料です。 触媒（通常は五酸化バナジウム）の存在下で酸素（O2）と反応して、三酸化硫黄（SO3）を形成します。

* 三酸化硫黄（SO3）を水（H2O）と反応させて硫酸（H2SO4）を生成します。

したがって、接触プロセスは、重要な反応物として二酸化硫黄に依存しています。