化学シフトに影響を与える要因の内訳は次のとおりです。
* 置換基の電気陰性度： 電子吸引グループ（例：ニトロ、カルボニル）は、芳香族陽子を脱守し、ダウンフィールドシフト（PPM値が高い）をもたらします。電子誘導基（メトキシ、アルキルなど）は芳香族プロトンを保護し、アップフィールドシフト（PPM値が低い）をもたらします。
* リング電流効果： 芳香環内の非局所化されたPi-Electronsは、磁場を誘導するリング電流を作成します。このフィールドは、リング電流に対する位置に応じて、芳香族プロトンを保護または脱守できます。
* 溶媒効果： NMR実験に使用される溶媒は、化学シフトにも影響を与える可能性があります。プロティック溶媒（水、メタノールなど）は、芳香族プロトンと相互作用し、それらの化学シフトに影響を与える可能性があります。
注：
*芳香族領域はしばしば「指紋領域」と呼ばれます 芳香族陽子の化学シフトを使用して、特定の芳香族化合物を識別できるためです。
* 他の領域 NMRスペクトルでは、脂肪族領域などの芳香族化合物の構造に関する情報も提供できます （0-5 ppm）およびカルボニル領域 （190-220 ppm）。
要約すると、NMR分光法における芳香族領域の化学シフトは、いくつかの要因の影響を受けた複雑な現象です。ただし、6.5〜8.5 ppmの一般的な範囲は、NMRスペクトルで芳香族プロトンを識別するための有用なガイドラインを提供します。
