半導体に不純物を追加するプロセスは、ドーピングと呼ばれます。ドーピングは、材料内の遊離電子または穴の数を変更することにより、導電率などの半導体の電気特性を変えることができます。
ドーピングには2つの主なタイプがあります。
p型ドーピング および nタイプドーピング 。
p型ドーピング 半導体原子よりも原子電子が1つ少ない原子を半導体に添加することを伴います。これにより、半導体に正味の正電荷が作成され、穴の形成につながります。これらの穴は半導体を介して自由に移動し、電気を導くことができます。
nタイプドーピング 半導体原子よりも1つの原子価電子を持つ原子を半導体に添加することが含まれます。これにより、半導体に正味の負電荷が生成され、遊離電子の形成につながります。これらの電子は半導体を介して自由に移動し、電気を導くことができます。
半導体にN型とP型の両方の不純物がドープされている場合、P-N接合が作成されます。 P-nジャンクションは、さまざまな電子デバイスで使用されているトランジスタの構成要素です。
