* 電気陰性の差： イオン結合は、大きい電気陰性の差がある元素間に形成されます（通常は1.7を超える）。シリコン（SI）の電気陰性度は1.9で、塩素（Cl）の電気陰性度は3.16です。違いは1.26であり、これはイオン結合を形成するのに十分な大きさではありません。
* 電子の共有： 共有結合は、原子が電子を共有して安定した電子構成を実現するときに発生します。四塩化シリコン（sicl₄）では、シリコンは4つの塩素原子と4つの原子価電子を共有し、各塩素原子は共有ペアに1つの電子を寄与します。
要約： シリコンと塩素は、電気陰性度の違いがイオン結合を作成するほど重要ではないため、共有結合を形成します。代わりに、電子を共有して安定した化合物を形成します。
