* シリコンのエレクトロニーゲーション： シリコンの電気陰性度は1.9で、比較的低いです。これは、電子の強い魅力がないことを意味します。
* シリコンの価電子： シリコンには4つの価電子があります。つまり、安定したオクテット構成を実現するには、4つの電子を共有する必要があります。
シリコンが共有結合を形成する方法：
シリコンは、次のような他の非金属と共有結合を容易に形成します。
* 酸素： 二酸化シリコン（SIO2）は一般的な例であり、砂とガラスの基礎を形成します。
* 炭素： シリコンは、シリコンポリマーのような多くの重要なポリマーのバックボーンを形成します。
* 水素： シラン（SI-H結合を持つ化合物）は、さまざまな産業用途で使用されています。
シリコンを含む共有結合の例：
* 炭化シリコン（sic）： 多くの産業用アプリケーションを備えた非常に硬い素材。
* 四塩化シリコン（SICL4）： シリコンの生産に使用される反応性化合物。
* シリコン水素化物（SIH4、SI2H6など）： これらは、太陽エネルギーと電子機器に潜在的な用途を備えた可燃性ガスです。
重要な注意： シリコンは、フッ素（シリコンテトラフルオリド、SIF4）などの非常に電気陰性の元素とイオン結合を形成することもできます。ただし、共有結合は相互作用の主要なモードです。
